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研究型原子力顯微鏡
Park XE7配有Park Systems的所有**技術，而且價格十分親民。與Park Systems的其他上等型號相比，XE7在細節的設計上也相當用心，是幫助您準時且不超預算地完成研究的理想之選。
Park XE7通過消除掃描器串擾進行準確的XY掃描
Park Systems的先進串擾消除(XE)掃描系統能夠有效解決上述問題。我們使用了二維柔性平臺專門掃描樣品的XY軸位置，并通過壓電疊堆傳動裝置專門掃描探針懸臂的Z軸位置。用于XY軸掃描的柔性平臺采用了固體鋁材，其具有超高的正交性和出色的平面外運動軌跡。柔性平臺可在XY軸掃描大型樣品（1 kg左右），頻率*高達100 Hz左右。由于XY軸的帶寬要求遠低于Z軸的帶寬要求，因此該掃描速度已然足夠。用于Z軸掃描的壓電疊堆傳動裝置具有大的推拉力和高共振頻率（約10 kHz)。
XE scan system 適用于樣品和探針**的獨立XY軸和Z軸柔性掃描器 XY flexure scanner 平直正交的XY軸掃描，殘余彎曲低 XE-Peformence 圖9. (a)表示Park Systems XE系統的背景曲率為零，而(b)是傳統的原子力顯微鏡系統的管式掃描器的典型背景曲率，(c)展示了這些背景曲率的橫截面。 圖9展示了XE系統(a)和傳統原子力顯微鏡(b)掃描硅片時，未處理的成像圖。由于硅片屬于原子級光滑材料，因此圖像中的彎曲大多數是掃描器所引起的。圖9(c)展示了圖9中(a)(b)圖像的橫截面。由于管式掃描器本身帶有背景曲率，因此當X軸的位置移動15 μm時，平面外移動*大可達80 nm。而在相同的掃描范圍內，XE掃描系統的平面外移動則不超過1 nm。XE掃描系統的另一大優勢是Z軸伺服回應。圖10是XE掃描系統在無接觸模式下拍下的一個多孔聚合物球體（二乙烯苯）的圖像，其直徑大約為5 μm。由于XE掃描系統的Z軸伺服回應極其精準，探針可以**地沿著聚合物球體上的大曲率以及小孔平面結構移動，而不會壓碎或粘連在其表面上。圖11是Z軸伺服回應在平坦背景上高性能的表現。
XE scan system
XY flexure scanner
XE-Peformence
圖9. (a)表示Park Systems XE系統的背景曲率為零，而(b)是傳統的原子力顯微鏡系統的管式掃描器的典型背景曲率，(c)展示了這些背景曲率的橫截面。 圖9展示了XE系統(a)和傳統原子力顯微鏡(b)掃描硅片時，未處理的成像圖。由于硅片屬于原子級光滑材料，因此圖像中的彎曲大多數是掃描器所引起的。圖9(c)展示了圖9中(a)(b)圖像的橫截面。由于管式掃描器本身帶有背景曲率，因此當X軸的位置移動15 μm時，平面外移動*大可達80 nm。而在相同的掃描范圍內，XE掃描系統的平面外移動則不超過1 nm。XE掃描系統的另一大優勢是Z軸伺服回應。圖10是XE掃描系統在無接觸模式下拍下的一個多孔聚合物球體（二乙烯苯）的圖像，其直徑大約為5 μm。由于XE掃描系統的Z軸伺服回應極其精準，探針可以**地沿著聚合物球體上的大曲率以及小孔平面結構移動，而不會壓碎或粘連在其表面上。圖11是Z軸伺服回應在平坦背景上高性能的表現。
在True Non-Contact?模式中，探針**與樣品的距離在相互原子力的控制下，被成功地控制在幾納米之間。探針**振動幅度下，大大減少了探針與樣品的接觸，從而完好地保護了探針和樣品。
True Non-Contact? Mode
Tapping Imaging
Longer Tip Life and Less Sample Damage
原子力顯微鏡探針的**十分脆弱，這使得它在接觸樣品后會快速變鈍，從而限制原子力顯微鏡的分辨率和圖像的質量。對于材質較軟的樣品，探針會破壞樣品，導致其高度測量不準確。相應地，探針保持完整性意味著顯微鏡可以持續提供高分辨率的**數據。XE系列原子力顯微鏡的真正非接觸模式能夠極大程度保護探針，從而延長其壽命，并減少對于樣品的破壞。下圖中以1:1的長寬比展示了XE系列原子力顯微鏡掃描淺溝道隔離樣品的未處理圖像，該樣品的深度由掃描電子顯微鏡(SEM)確定。在成像20次之后，探針幾乎有沒任何磨損。
Park XE7規格
可觀察樣品表面和探針的直視同軸光學系統 視場：480 μm X 360 μm（10倍物鏡） CCD：120萬像素（默認）, 500萬像素, 可選（視場:840 μm X 630 μm）
磁學特性
介電/壓電特性
· 壓電響應譜
· 靜電力顯微鏡（EFM）
機械性能
· 電化學池
· 手套箱 · 磁場發生器
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