MC1000離子濺射儀
由日立高新技術(shù)公司自行設(shè)計(jì)制造，針對(duì)掃描電鏡的精細(xì)**需求而設(shè)計(jì)，適合微觀結(jié)構(gòu)較復(fù)雜的樣品，尤
其適合于場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡的高倍率觀測(cè)應(yīng)用。
主要特點(diǎn)：
1. 操作方便且有記憶功能，首 創(chuàng)LCD觸摸屏控制技術(shù)，可存儲(chǔ)五種處理方案； 2. 通過磁場(chǎng)控制金屬顆粒的濺射噴鍍軌跡，從而使鍍層更均勻； 3. 通過選配測(cè)量單元可實(shí)現(xiàn)1nm至30nm的鍍層厚度控制。