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近紅外成像在電子設備和半導體檢測中的功能
使用顯微鏡的近紅外(NIR)成像可透過厚度高達650微米的硅進行成像,成為檢測電子設備和半導體的一種強有力的方式。微電子設備的典型故障分析方案要求能透過硅對電路圖進行無損檢測,同時保持成品的機械整合性。
更多詳細內容>>
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